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半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、中國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。 宏潔水務在滿足用戶用水標準的基礎上，在設備系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質...

國內半導體行業近幾年來的發展令人注目，特別是大型芯片制造企業在東南沿海地區蓬勃發展。芯片制造過程中要消耗大量的水，同時使用大量的化學試劑和特殊氣體，排放的廢水中成分復雜，因此如何選擇廢水處理系統，使廢水處理達標，并降低其處理費用，同時充分做好中水回用，降低單位產品的能耗，節約水資源，是我們的研究重點。

RO反滲透純水設備采用膜分離技術，當系統中所加的壓力大于進水溶液滲透壓時，使水透過特制的半透膜，從溶液中分離出來，達到對水進行分離、提取、純化和濃縮的目的。 本設備無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統的方法能耗低。ro反滲透純水設備體積小，操作簡單，適用范圍廣，處理工業用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，運行費用低。